| 번호 | 이미지 | 장비명 | 모델명 | 제조사 | 보유기관 |
|---|---|---|---|---|---|
| 1736 |
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리프트오프 장치 (Lift-off machine) |
VL-6020 | M.setek | 한국나노기술원 나노공정본부 |
| 1735 |
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회전을 이용한 웨이퍼 에칭 장치 (Spin Etcher) |
VE-8200 | M.setek | 한국나노기술원 나노공정본부 |
| 1734 |
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67 GHz 모델링 시스템 (67GHz modeling System) |
85225GE0 | Agilent Technologies | 한국나노기술원 나노공정본부 |
| 1733 |
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110 GHz 모델링 시스템 (110GHz Modeling System) |
85225HE01 | Agilent Technologies | 한국나노기술원 나노공정본부 |
| 1732 |
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X-Ray 회절 분석기 (XRD) |
D8 DISCOVER | Bruker | 한국나노기술원 나노공정본부 |
| 1731 |
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회전도포기 Ⅰ (Spin coater Ⅰ) |
DELTA 80RC | Suss Microtec | 한국나노기술원 나노공정본부 |
| 1730 |
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핫 플레이트 Ⅲ (Hot plate baker Ⅲ) |
REX-F400 | 좋은기술 | 한국나노기술원 나노공정본부 |
| 1729 |
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홀 효과 측정 장치 (Hall measurement System) |
HL5500PC | Accent Optical Technologies | 한국나노기술원 나노공정본부 |
| 1728 |
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핫 플레이트 Ⅱ (Hot plate baker Ⅱ) |
REX-F400 | 좋은기술 | 한국나노기술원 나노공정본부 |
| 1727 |
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여기전자광분석기 (PL mapper) |
RPM2000 | Accent Optical Technologies | 한국나노기술원 나노공정본부 |
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